
EE. UU. financia a xLight para atacar el cuello de botella de ASML
Estados Unidos ha decidido entrar con dinero público en una de las partes más difíciles de la fabricación avanzada de chips: la fuente de luz de la litografía EUV. El Departamento de Comercio y el NIST han cerrado una ayuda de 150 millones de dólares para xLight, una startup californiana presidida por Pat Gelsinger, ex consejero delegado de Intel, que quiere desarrollar una fuente EUV basada en láser de electrones libres. El movimiento no significa que Estados Unidos vaya a tener mañana una alternativa completa a ASML. La empresa neerlandesa sigue siendo la única capaz de fabricar escáneres EUV comerciales en volumen, una posición que le da un papel único en la cadena global de semiconductores. Lo relevante es que



