
Jensen Huang sitúa en 2030 el salto de China hacia la litografía avanzada
Jensen Huang, CEO de NVIDIA, considera que China podría disponer de sistemas propios de litografía avanzada hacia 2030, una previsión que contrasta con la situación actual de su industria de fabricación de semiconductores. El país ha avanzado en equipos de litografía domésticos, pero todavía existe una distancia considerable respecto a los sistemas más avanzados de ASML, especialmente en litografía ultravioleta extrema (EUV). Las claves de la litografía china en 20 segundos Las declaraciones de Huang se produjeron durante una entrevista con The All-In Podcast, en la que el máximo responsable de NVIDIA situó alrededor de 2030 el momento en el que China podría alcanzar capacidades propias de litografía avanzada. Su argumento parte del ritmo de industrialización del país y de




