
Estados Unidos inyecta hasta 150 millones de dólares en xLight para revolucionar la litografía EUV
La batalla por el próximo gran salto en la fabricación de chips ha sumado un nuevo protagonista. La startup estadounidense xLight, respaldada por el ex consejero delegado de Intel, Pat Gelsinger, ha firmado una Letter of Intent (LOI) con el Departamento de Comercio de EE. UU. para recibir hasta 150 millones de dólares en incentivos federales bajo la Ley CHIPS y Ciencia. El objetivo: desarrollar una nueva fuente de luz para litografía extrema ultravioleta (EUV) basada en un láser de electrones libres (FEL), alternativa a las fuentes actuales de plasma láser que utilizan los sistemas de ASML. Aunque la LOI no es vinculante, supone el primer gran gesto de la oficina de I+D de CHIPS en la era Trump y
