
Intel supera el millón de obleas con High-NA EUV y prepara el siguiente salto
Intel Foundry ha superado el millón de obleas de 300 mm procesadas con litografía High-NA EUV de ASML, un volumen que incluye instalación y certificación de equipos, investigación, desarrollo y fabricación comercial. La compañía ya emplea esta tecnología en determinadas capas de algunos procesadores Panther Lake fabricados con Intel 18A y trabaja junto a ASML en un cambio todavía mayor: sustituir las máscaras actuales por un formato de 6×12 pulgadas capaz de eliminar parte de las limitaciones que introduce High-NA. Las claves del millón de obleas High-NA EUV de Intel en 20 segundos El anuncio se ha realizado coincidiendo con la conferencia SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography, celebrada esta semana en Monterey, California, donde Intel Foundry y ASML




