
La china SiCarrier sacude la industria con su litografía de 28 nm: ¿un nuevo paradigma para la soberanía tecnológica?
En el marco de la feria SEMICON China 2025, una joven empresa china de equipos para semiconductores, SiCarrier Technologies (新凱來), ha captado la atención internacional tras presentar públicamente una litografía de 28 nanómetros para obleas de 300 mm, tecnología clave hasta ahora dominada por gigantes como ASML. Fundada en 2020 y respaldada por el fondo industrial del gobierno de Shenzhen, SiCarrier ha desarrollado en apenas cuatro años una treintena de equipos para procesos críticos como deposición de capas atómicas (ALD), deposición química y física de vapor (CVD y PVD), grabado y pruebas eléctricas. Su litografía de inmersión de 28 nm, aunque no se exhibió directamente, ha sido confirmada por fuentes internas como una tecnología que ya cumple con estándares internacionales