China enseña músculo con un prototipo EUV y fuerza a Occidente a replantear el “monopolio psicológico” de la litografía
La carrera global por los semiconductores ha vivido durante años con una frase no escrita pero muy presente en despachos, laboratorios y mercados: China no puede fabricar su propia EUV. Esa idea —más mental que técnica— sostenía buena parte del equilibrio actual, porque la litografía de ultravioleta extremo (EUV) es la llave que abre la puerta a nodos avanzados de fabricación. Ahora, ese marco empieza a moverse. En los últimos días ha cobrado fuerza la información de que China habría construido un primer escáner EUV funcional en fase de prototipo, un hito que no equivale a “fabricación masiva mañana”, pero sí cambia el tono de la conversación. Si se confirma plenamente el alcance del prototipo, lo importante no sería que