
China cambia el enfoque para alcanzar a ASML en la carrera por la litografía EUV
China está intentando reducir su dependencia de ASML en la fabricación de semiconductores avanzados y uno de los frentes más importantes ya no está únicamente en construir una máquina de litografía completa, sino en resolver uno de sus componentes más difíciles: la fuente de luz ultravioleta extrema (EUV). Los avances de varios equipos chinos apuntan a distintas arquitecturas para generar esta luz, aunque todavía existe una distancia importante respecto a las prestaciones necesarias para fabricar chips a escala comercial. Las claves de la carrera china por la litografía EUV en 30 segundos La carrera por la EUV tiene una particularidad: el problema no consiste simplemente en construir una máquina que proyecte luz sobre una oblea. La longitud de onda de




