
China da un paso clave en semiconductores: arranca el primer proyecto nacional de fotoprotector EUV MOR
China acaba de dar un golpe sobre la mesa en la carrera por la soberanía tecnológica en semiconductores. Durante la Conferencia de Innovación y Desarrollo de Circuitos Integrados 2025, celebrada en Wuxi (provincia de Jiangsu), se anunció el arranque del primer proyecto nacional capaz de producir resinas y fotoprotectores avanzados para litografía EUV. Este desarrollo, centrado en la tecnología MOR (Metal Oxide Resist, o fotorresistentes de óxidos metálicos), convierte a China en el primer país fuera de la órbita de ASML y sus socios en dominar una de las piezas más críticas del ecosistema de chips de 5 nanómetros y por debajo. El contexto: litografía EUV, la frontera tecnológica La litografía EUV (Extreme Ultraviolet Lithography) es el proceso mediante el