Un prototipo EUV en China sacude el tablero: la clave no es “tenerlo”, sino escalarlo
China habría dado —al menos en laboratorio— un paso que durante años parecía fuera de su alcance: un prototipo funcional de litografía de ultravioleta extremo (EUV). La información, publicada el 16 de diciembre de 2025 por DigiTimes Asia y atribuida a un entorno de I+D en Shenzhen, es escasa en detalles técnicos y no equivale a una máquina lista para fabricar chips, pero sí marca un punto de inflexión psicológico: el mensaje de que el “núcleo” de la EUV podría estar entrando en el terreno de lo posible. En la industria, sin embargo, la pregunta no es si existe un prototipo, sino si puede convertirse en un sistema industrial capaz de producir a gran escala con rendimiento, estabilidad, repetibilidad y