DNP y Canon agitan el tablero de la litografía: una plantilla “1,4 nm” que promete recortar costes energéticos… sin garantías de adopción
La carrera hacia los nodos más avanzados lleva años marcada por una palabra: EUV. La litografía ultravioleta extrema se ha convertido en el cuello de botella más caro —y energéticamente exigente— de la fabricación de chips punteros. Por eso, cada vez que aparece una alternativa mínimamente creíble, el mercado toma nota. Esta semana, Dai Nippon Printing (DNP) ha puesto una pieza nueva sobre el tablero: una plantilla para nanoimprint lithography (NIL) capaz de transferir patrones con líneas de 10 nm, que la compañía asocia con procesos equivalentes a la generación de 1,4 nm. DNP asegura que su objetivo es fabricación en masa en 2027 y fija incluso una meta comercial: elevar las ventas de NIL hasta 4.000 millones de yenes