
ASML y el reto de la litografía EUV High-NA: el TWINSCAN EXE:5200B abre una nueva era en la fabricación de chips
El futuro de la industria de semiconductores está íntimamente ligado a la capacidad de grabar transistores cada vez más pequeños sobre obleas de silicio. Y en este terreno, ASML, la compañía neerlandesa que domina el mercado de la litografía, vuelve a marcar un hito con su sistema TWINSCAN EXE:5200B, la segunda generación de equipos de litografía EUV de alta apertura numérica (High-NA, 0,55 NA). Este nuevo escáner supone un salto frente a los sistemas EUV convencionales (0,33 NA) y promete densidades de transistores hasta 2,9 veces mayores, reduciendo la complejidad de los procesos de fabricación y aumentando el rendimiento de las fábricas. Qué es la litografía EUV High-NA La litografía es el corazón del proceso de fabricación de microchips: consiste