
Rusia completa un litógrafo de 130 nm, pero aún está lejos de producir chips en serie
Rusia ha completado el tercer tramo de desarrollo de su primer equipo de fotolitografía capaz de trabajar con obleas de hasta 200 mm y una resolución de 130 nanómetros (nm). El prototipo, desarrollado por el Centro de Nanotecnología de Zelenogrado (ZNTC) junto con la empresa bielorrusa Planar, ya está en pruebas internas, pero todavía necesita superar nuevas fases antes de poder utilizarse en una fábrica para producir chips de forma industrial. Las claves del litógrafo ruso de 130 nm en 20 segundos El anuncio es relevante para la industria rusa porque la fotolitografía es una de las piezas más difíciles de desarrollar dentro de una cadena de fabricación de semiconductores. El equipo permite proyectar sobre una oblea el patrón que




