ASML entrega su segunda máquina de litografía EUV de alta NA, alcanzando patrones de 10nm

ASML ha anunciado la entrega de su más reciente sistema de litografía EUV de alta apertura numérica (NA) a un segundo cliente. Anteriormente, la compañía había enviado uno de estos avanzados sistemas a Intel Corporation entre diciembre de 2023 y enero de 2024, pero aún no se ha revelado la identidad del segundo cliente. Entre los posibles compradores se encuentran fabricantes de chips por contrato como TSMC y Samsung Electronics, que producen chips para empresas como NVIDIA y Apple.

Estos sistemas de vanguardia, valorados aproximadamente en €3.5 mil millones (alrededor de $3.7 mil millones USD) cada uno, están destinados a soportar la producción de la próxima generación de chips más pequeños y rápidos. Tanto TSMC como Samsung han declarado sus planes de adoptar este nuevo sistema, que se espera aumente significativamente la cantidad de transistores que pueden integrarse en un solo chip.

Intel planea comenzar a usar el sistema de alta NA para la producción temprana de sus chips de la serie Intel 14A entre 2026 y 2027. El primer sistema de alta NA fue ensamblado en la sede de ASML en Veldhoven, Países Bajos, y las empresas que utilizan tecnología EUV pueden usar el sistema con fines de prueba. ASML informa haber recibido pedidos de 10 a 20 unidades de este equipo avanzado.

Los sistemas de litografía utilizan haces de luz para crear circuitos en los chips. Los sistemas EUV de primera generación de ASML ya se utilizan ampliamente para fabricar la mayoría de los chips en teléfonos inteligentes y aplicaciones de inteligencia artificial (IA). Estos sistemas emplean luz «ultravioleta extrema» para imprimir patrones con anchos de línea tan finos como 13nm.

Según fuentes, el sistema de alta NA ha logrado imprimir patrones con anchos de línea de 10nm, con un límite teórico de resolución de 8nm. Esta capacidad representa un avance significativo en la tecnología de fabricación de chips, permitiendo la producción de dispositivos electrónicos más potentes y eficientes.

La expansión del uso de sistemas de litografía EUV de alta NA por parte de los principales fabricantes de semiconductores marca un hito importante en la industria, destacando la continua innovación y el progreso tecnológico en la fabricación de chips. Esta tecnología permitirá a las empresas satisfacer la creciente demanda de dispositivos más pequeños y rápidos, impulsando así el desarrollo de nuevas aplicaciones en diversas áreas, desde la electrónica de consumo hasta la inteligencia artificial y más allá.

vía: Linkedin

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