--- title: "Rusia pone fecha a su EUV “propio”: chips por debajo de 10 nm en 2037, láseres de estado sólido y espejos Ru/Be a 11,2 nm" description: "Rusia ha presentado una hoja de ruta que, de cumplirse, cambiaría su posición en la carrera mundial de la fabricación de chips: desarrollar litografía EUV y de rayos X con la que producir desde 65 nm..." url: https://revistacloud.com/rusia-pone-fecha-a-su-euv-propio-chips-por-debajo-de-10-nm-en-2037-laseres-de-estado-solido-y-espejos-ru-be-a-112-nm/ date: 2025-10-07 modified: 2025-09-30 author: "Noticias Cloud" image: https://revistacloud.com/wp-content/uploads/2024/09/graviton-oblea.jpg categories: ["Noticias"] tags: ["10nm", "EUV", "litografía", "Rusia"] type: post lang: es --- # Rusia pone fecha a su EUV “propio”: chips por debajo de 10 nm en 2037, láseres de estado sólido y espejos Ru/Be a 11,2 nm Rusia ha presentado una **hoja de ruta** que, de cumplirse, cambiaría su posición en la carrera mundial de la fabricación de chips: **desarrollar [litografía EUV](https://revistacloud.com/asml-entrega-su-segunda-maquina-de-litografia-euv-de-alta-na-alcanzando-patrones-de-10nm/) y de rayos X** con la que **producir desde 65 nm hasta resoluciones por debajo de 10 nm entre 2026 y 2037**. La propuesta, divulgada por el divulgador Dmitrii Kuznetsov en X (antes Twitter), combina un calendario agresivo —**steppers de 40 nm en 2026**, **escáneres de 28/14 nm entre 2029 y 2032** y **equipos de 13/9 nm entre 2033 y 2036**, con **EUV “plena” en 2037**— y una apuesta por **tecnologías distintas de las de ASML**: **láseres híbridos de estado sólido**, **fuentes de plasma de xenón** (en lugar de estaño) y **espejos de rutenio/berilio** operando a **11,2 nm** (frente a los **13,5 nm** que han estandarizado las máquinas EUV occidentales). No es solo un calendario. El discurso que acompaña a esta hoja de ruta sostiene que ese **EUV a 11,2 nm** permitiría **abaratar** procesos frente a **DUV por inmersión (193i)** en nodos de **14–65 nm** —porque **no haría falta inmersión** ni **múltiples exposiciones**—, **reducir el consumo energético a un tercio** y **eliminar** problemas de **contaminación por estaño** en la fuente de luz. A ello se suma un guiño geopolítico: Kuznetsov recuerda que una parte de la base tecnológica de **EUV a 13,5 nm** que hoy comercializa **ASML** “**se apoyó en contribuciones de científicos rusos**”, y vaticina que la **industria europea** podría **sufrir** si su propuesta rusa llega a materializarse por **caída de precios** y **ventaja tecnológica**. La ambición es evidente. La pregunta es si **el reloj y la realidad** pueden acompañar ese **salto de doce años**. --- > Итоги работы по EUV-литографу с «Микроэлектроника 2025» и план разработкиОтличия от EUV-станков ASML — использование новейших и недорогих русских технологий:— твёрдотельные гибридные лазеры— ксеноновая плазма в источнике — Ru/Be зеркала на 11,2 нм[#russianchip](https://twitter.com/hashtag/russianchip?src=hash&ref_src=twsrc%5Etfw) [#purerussian](https://twitter.com/hashtag/purerussian?src=hash&ref_src=twsrc%5Etfw) [pic.twitter.com/za29QKUdTi](https://t.co/za29QKUdTi)— Dmitrii Kuznetsov (@torgeek) [September 26, 2025](https://twitter.com/torgeek/status/1971504406991609885?ref_src=twsrc%5Etfw) ## Qué ha anunciado Rusia: fases, cifras y metas Según la presentación, el **Instituto de Física de Microestructuras de la Academia Rusa de Ciencias** ha definido un **roadmap** que arranca ya en **2026** y que se resume así: - **2026** — **Stepper** para nodos de **40 nm**, con **óptica de dos espejos** y **precisión de alineación de 10 nm**. - **2029–2032** — **Escáner** de **28 nm**, **capaz de llegar a 14 nm**, con **cuatro espejos**, **campo de exposición de 26×0,5 mm** y **productividades superiores a 50 W/h**. - **2033–2036** — Escáneres de **13 nm** e incluso **9 nm**, con **seis espejos**, **alineación a 2 nm** y **rendimientos de más de 100 W/h**. - **2037** — **Entrada en EUV** para resoluciones **sub-10 nm**, con **longitud de onda de 11,2 nm**, **fuente de xenón**, **láseres híbridos de estado sólido** y **espejos Ru/Be**. Conviene subrayar que **Occidente superó el hito de 28/14 nm** con ASML **hace más de una década**, y que la ruta rusa **va dos vueltas por detrás en el calendario**. Pero también es cierto que, por primera vez en años, Moscú pone **fechas y tecnologías concretas** sobre la mesa. --- ## Qué la hace distinta: 11,2 nm, xenón, láseres de estado sólido y espejos Ru/Be La **litografía EUV** industrial que hoy usan TSMC, Samsung e Intel se asienta en tres pilares: **longitud de onda de 13,5 nm**, **fuente de plasma de estaño** excitado por **láseres de CO₂**, y **espejos multicapa** **Mo/Si** con reflectividades ajustadas a esa longitud de onda. El **camino ruso** difiere en **cuatro puntos**: 1. **Longitud de onda de 11,2 nm**Reducir la longitud de onda **aumenta potencial de resolución** con **ópticas de tamaño similar**, a costa de **exigencias mayores** en **fuente** y **óptica** (reflectividad, estabilidad). Rusia afirma que **11,2 nm** “**abarata**” frente a 193i en **14–65 nm** al **evitar inmersión** y **múltiples pasadas**. 2. **Fuente de plasma de xenón (sin estaño)**La **EUV “clásica”** genera plasma de **estaño**; es **eficiente** pero **sucia**: el **Sn** contamina **ópticas** y **requiere limpieza y mitigación**. Apostar por **xenón** apunta a un **proceso más limpio** y, según la presentación, a **menos consumo energético** (**1/3** del actual). El reto: que el **xenón** proporcione **brillo suficiente** en **11,2 nm** para lograr **rendimientos industriales**. 3. **Láseres híbridos de estado sólido**Sustituir el **láser de CO₂** por **fuentes híbridas de estado sólido** puede **simplificar sistemas** y **reducir costes operativos**, siempre que la **energía** y la **estabilidad** alcancen lo que exige el **plasma EUV**. No hay detalles públicos sobre **potencias** ni **frecuencias**. 4. **Espejos Ru/Be**Los **multicapas Mo/Si** actuales están optimizados para **13,5 nm**. Cambiar a **11,2 nm** **exige nuevos multicapas**. La propuesta rusa habla de **rutenio/berilio** (**Ru/Be**). Sobre el papel, ajustar materiales puede **elevar reflectividad** en 11,2 nm; en la práctica, implica **investigación compleja**, **metrología exquisita** y **suministro** de **berilio** con **calidades ultraaltas**. El **mensaje** de Kuznetsov es que **esta vía alternativa** permite una **EUV más barata** y **eficiente** en **nodos maduros** (14–65 nm) y **competitiva** sub-10 nm. La **realidad técnica** es que **cada cambio** abre **nuevos problemas**: **reflectividades acumuladas** con más espejos, **resistencias** a 11,2 nm, **películas protectoras (pellicles)**, **ruido** y **estabilidad** de la **fuente**, **metrología** y **alineación** en **2 nm**… No son imposibles, pero **no hay atajos**. --- ## ¿Más barato que DUV 193i? El argumento y sus matices La presentación resume tres **ventajas** económicas y operativas frente a **DUV por inmersión (193i)**: - **Sin inmersión ni múltiples exposiciones** en **14–65 nm** → menos **capex** y **opex** en fábricas **en transición**. - **Consumo energético /3** → ahorro en **opex**. - **Proceso limpio (sin estaño)** → **menos mantenimiento** y **mayor disponibilidad**. Si **11,2 nm** funcionase **como promete**, es plausible que en **nodos maduros** —los que **fabrican el grueso** de chips de automoción, IoT, industrial— se **abaraten costes** al **evitar** la **inmersión** y el **multi-patterning**. La gran incógnita es si **el brillo** y la **óptica** a **11,2 nm** podrán **sostener productividades** de **cientos de *wafers por hora*** que **DUV** entrega hoy con **equipos amortizados** y **cadencias probadas**. Las **cifras** de **50 W/h** y **100 W/h** que cita el roadmap (en la presentación se usan unidades poco habituales para “productividad”) **no son comparables** de forma directa a los **wafers por hora** que declara la industria. **Faltan** detalles. --- ## Un guiño al pasado (y una pulla a ASML) Kuznetsov recuerda que las **tecnologías “viejas” de 13,5 nm** de EUV “**se obtuvieron en parte de Rusia y de científicos rusos**”. No ofrece enlaces ni bibliografía en el hilo, pero el **mensaje** está claro: **legitimidad** para **competir** ahora con una **derivada “propia”** en **11,2 nm**. El **aviso** se completa con una predicción: si esa vía **abarata** EUV, **Europa** podría ver **estresada** la hoja de ruta de **ASML** por **caídas de precio** y **“retraso tecnológico”**. Conviene poner la frase **en contexto**. Que haya habido **contribuciones rusas** a la **óptica** o a la **física del plasma** en los noventa/2000 **no cambia** que **ASML** ha sido quien **industrializó** EUV con **consorcios** y **proveedores** como **ZEISS**. **Industrializar** equivale a **multiplicar por mil**: tolerancias, repetibilidad, *supply chain*, **servicio global**. --- ## Lo que Rusia sí pone sobre la mesa (y lo que aún falta) **A favor**: - **Una vía técnica alternativa** que, si madura, **diversifica** la **dependencia** de la industria. - **Fechas** y **objetivos** anuales que permiten **medir** avances (40 nm en 2026, 28/14 nm en 2029–2032…). - **Enfoque pragmático**: no prometer **2 nm** mañana, sino **escalones** que **acorten** la brecha, empezando por **nodos donde hay volumen**. **En contra (o por demostrar)**: - **Fuente de 11,2 nm** con **brillo** y **estabilidad** suficientes. - **Multicapas Ru/Be** con **reflectividad acumulada** competitiva para **6 espejos**. - **Resists** y **pellicles** aptos para **11,2 nm**. - **Metrología** y **alineación** en **2 nm** en un ecosistema aún **naciente**. - **Cadena de suministro** (materiales, óptica, *vacuum*, etapas, *stages*), que en EUV es **global y delicadísima**. La **geopolítica** se suma: **controles de exportación**, **sanciones**, **acceso a componentes** y la posibilidad de **apoyos externos** —**China** es la **gran variable**, citada en tono de “jamás digas nunca” por analistas—. --- ## ¿Qué podría pasar si llega a funcionar? 1. **Presión a precios** en **14–65 nm**, donde **DUV 193i** —con **multi-patterning**— aún reina. 2. **Ecosistema alternativo** que **reduce** la dependencia de **un único proveedor** global para **EUV**. 3. **Más jugadores** en **sub-10 nm** con **tecnologías divergentes** (13,5 vs. 11,2 nm), obligando a **resists**, **óptica** y **metrología** a **soportar dos mundos**. 4. **Más riesgo/fragmentación** en estándares, **más resiliencia** en suministro. El **escenario base** sigue siendo que Rusia **llega tarde** y tendrá que **probar cada paso**. Pero **marcar 2037** como año de **EUV** es, al menos, **una línea de meta** que permitirá **distinguir humo de fuego** con el paso de los años. --- ## Cronómetro y escepticismo: dos décadas en diez años La litografía **no perdona atajos**. **ASML** tardó **décadas** —con **consorcios** EEUU-Europa-Japón— en **cerrar** EUV. Rusia quiere recorrer **dos décadas** en **doce años**. **¿Es imposible?** No, pero **exige**: - **Recursos sostenidos** (ciencia, ingeniería, proveedores). - **Gobernanza de proyectos** que sobreviva a **ciclos políticos**. - **Validaciones** públicas (prototipos, *tool in fab*, rendimiento real) en cada **jalón**. El propio Kuznetsov concede que **“van tarde”**, y los hitos de 2029–2032 (**28 → 14 nm**, **4 espejos**) o 2033–2036 (**13 → 9 nm**, **6 espejos**) **aún** están **por detrás** de lo que **Occidente** desplegó hace años. Pero **cada paso** reducirá la **brecha** si se ejecuta. --- ## Conclusión: ambición, alternativa… y mucho que demostrar La **hoja de ruta rusa** para **EUV a 11,2 nm** es, a la vez, **ambiciosa** y **disruptiva**. Si logra **fuentes de xenón** con **brillo industrial**, **multicapas Ru/Be** con **reflectividades** suficientes y **metrología** en **2 nm**, puede **crear** una **segunda vía** hacia la **litografía avanzada**, con **impacto** en **costes** y **competencia**. Por ahora, **todo son promesas** y **fechas**. Un sano **escepticismo** es pertinente; también lo es **vigilar** los **hitos** inmediatos: **2026** (40 nm), **2029–2032** (28/14 nm), **2033–2036** (13/9 nm). Si **cumplen**, la **EUV rusa** dejará de ser un **chiste fácil** para convertirse en **alternativa**. Si **no**, quedará como otro **plan quinquenal** que no sobrevivió al **vacío entre el laboratorio y la fábrica**. --- ## Preguntas frecuentes **¿Qué diferencia a la litografía EUV rusa propuesta (11,2 nm) de la que usa ASML (13,5 nm)?** La ruta rusa propone **operar a 11,2 nm** con **fuente de plasma de xenón**, **láseres híbridos de estado sólido** y **espejos multicapa Ru/Be**. La **EUV industrial** actual usa **13,5 nm**, **plasma de estaño** excitado por **láser de CO₂** y **multicapas Mo/Si**. Sobre el papel, **11,2 nm** mejora **resolución** y promete **costes/energía** más bajos en **14–65 nm**; en la práctica, requiere **resolver** el **brillo de la fuente**, la **reflectividad óptica**, **resists**, **pellicles** y **metrología** para ser **viable en fábricas**. **¿Qué fechas y equipos ha anunciado Rusia en su hoja de ruta de litografía?** - **2026**: **stepper** de **40 nm** con **2 espejos** y **alineación de 10 nm**. - **2029–2032**: **escáner** de **28 nm** capaz de **14 nm**, **4 espejos**, **26×0,5 mm** de campo y **>50 W/h**. - **2033–2036**: **13 nm** e incluso **9 nm**, **6 espejos**, **2 nm** de alineación y **>100 W/h**. - **2037**: **EUV** propia a **11,2 nm** para **sub-10 nm**. **¿Por qué usar plasma de xenón y espejos Ru/Be?** Según la propuesta, el **xenón** evitaría la **contaminación por estaño** y, con **láseres de estado sólido**, reduciría el **consumo energético**. Los **espejos Ru/Be** se ajustarían mejor a **11,2 nm** que los **Mo/Si** de **13,5 nm**. El **reto** es demostrar **brillo** suficiente de la **fuente** y **reflectividades acumuladas** competitivas con **6 espejos** para lograr **rendimientos industriales**. **¿Qué impacto tendría para Europa y para ASML si Rusia lograse EUV en 2037?** De materializarse, podría **presionar precios** en **14–65 nm**, **diversificar** el **suministro** de **EUV** y abrir una **segunda vía tecnológica** (11,2 vs. 13,5 nm). Pero **industrializar** EUV exige **ecosistema**, **proveedores** y **servicio global**; **ASML** parte con **ventaja** tras décadas de despliegue. La **hoja de ruta rusa** deberá **validarse** hito a hito antes de hablar de **impacto real**.